产品详情
全自动光纤光栅刻写平台
全自动光纤光栅刻写平台
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  技术原理:

本光纤光栅刻写平台采用的技术主要包括:紫外准分子激光器、载氢增敏技术、相位掩模板干涉成栅技术、幅度掩模板变迹切趾技术以及拉力波长调节技术。

  其刻写光路为准分子激光器输出的激光经过可调光阑、一对柱面镜和小孔光阑组成的空间滤波及整?#25991;?#22359;后形成一个长方形均匀光斑。该光斑再经过幅度掩模板后形成与幅度模板形状一致的光斑,并经过柱透镜聚焦后经过相位掩模板,相位掩模板的±1级衍射形成干涉条纹。?#22791;?#24178;涉条?#21697;?#29031;具有光敏性的光纤一段时间后,就可以在光纤中形成不同强度的光纤光栅,最终光纤光栅的类型和参数将决定于光纤和干涉条?#39057;南?#23545;位置关系、相位掩模板的周期、辐照时间等因素。

    

    型号:JKWP-101B

    特点:全自动化光纤光栅刻写,适合企业光纤光栅的大批?#21487;?#20135;需求或院所的产业化需求

    平台组成一览:

    系统名称
    功能描述和说明
    平台基座
    能避免环境因素对平台稳定程度的影响
    载氢光学增敏系统
    提供安全的载氢增敏解决方案
    光源系统
    作为光栅刻写的UV光源,提供稳定的激光输出
    紫外光路系统
    刻写平台的主要功能模块
    高精度自动化光纤夹持模块
    提供光纤大压力无损光纤夹持,提供光纤电动调节的配套解决方案
    光纤电动调节系统
    提供拉力可编程的自动化施加
    光栅测试系统
    分别提供能对1um;1.5um;2um波段的光纤光栅进行测试?#21335;?#32479;
    自动化光束幅度可编程调节控制模块
    提供光束幅度调节解决方案
    自动快速可编程相位板切换模块
    提供相位板快速自动化切换解决方案
    自动化一体逻辑控制系统
    提供整个自动化刻写系统的一体化逻辑控?#24179;?#20915;方案
    退火消氢系统
    提供退火消氢解决方案
    光栅涂覆系统
    提供栅区涂覆解决方案
    封装固化系统
    提供高效率金属封装完成方法
    刻写管理系统
    提供光纤光栅刻写平台的统一管理软件
    其他可选配件
    提供刻写平台需要的其他配件
    培训指导服务
    提供对平台的使用培训

    注:以上规格为标准配置,可根据客户具体需求,提供定制产品。


    具体使用简介:

    本平台选用国产精密光学隔振平台作为基础,避免环境因素对平台稳定程度的影响; 由在光纤光栅领域深耕十余年的光学工程专家设计光路系统,与南京聚科光电技术有限公司自主构建的自动化一体系统完美结合,从而实现自动化特种光纤光栅刻写。

    本平台为了能实现高速稳定特种光纤光栅一致化刻写,提供了由工程学专家设计的八个载氢模块,能提供以十五天为周期的载氢循环,足够全速生产。

    而在其他配件方面,我们为您选配了由国际顶尖激光器厂商提供的准分子激光器;美国vytran公司提供的PTR-200-MRC系列光纤涂?#19981;?#21644;LDC-400光纤切割机;由日本藤仓公司提供的中断光纤剥除仪、CT30光纤切割刀、FSM-80S光纤熔接机;由国内厂家提供的高温烘箱;将组成光纤光栅的各种处理流程。

    对于每个平台,我们都将提供一次1/人?#38395;?#35757;指导服务,培训以实际学会光纤光栅刻写平台的使用为准。